MAX相涂層可控制備與鋯合金氧化防護(hù)獲進(jìn)展
近期,中科院寧波材料所先進(jìn)碳基薄膜技術(shù)團(tuán)隊(duì)聚焦于211系A(chǔ)l基MAX相涂層材料體系,在涂層可控制備、氧化機(jī)理、鋯合金防護(hù)技術(shù)方面取得新進(jìn)展。
針對傳統(tǒng)物理氣相沉積(physical vapor deposition,PVD)一步法制備MAX相涂層過程中遇到的沉積溫度高使基體應(yīng)用受限、涂層成相區(qū)間窄/結(jié)晶性差、大面積均勻難制備的技術(shù)挑戰(zhàn),團(tuán)隊(duì)提出了先進(jìn)行低溫PVD沉積,再進(jìn)行復(fù)合固相反應(yīng)的兩步法合成MAX相涂層的思路。利用低溫磁控濺射復(fù)合靶,通入碳?xì)錃怏w或氮?dú)夥磻?yīng)沉積,在300℃沉積溫度以下,改變退火溫度和時間,實(shí)現(xiàn)對界面擴(kuò)散與中間生成競爭相的控制,最終制備出了純度達(dá)90wt.%的211系Ti2AlC涂層(授權(quán)發(fā)明專利,201410168406.0;J. Mater. Sci. Technol., 31(2015)1193;Surf. Coat. Technol. 272(2015) 380)。
該兩步法極大拓寬了MAX相涂層成相窗口,相繼實(shí)現(xiàn)了Ti2AlC、Cr2AlC、V2AlC、Ti2AlN等系列211系MAX相涂層在316L不銹鋼、鈦合金、鋯合金等多種基體表面的大面積、均勻、高純度制備(發(fā)明專利,201810077319.2;J. Alloy. Compd., 661(2016) 476, 753(2018)11)。
為克服磁控濺射制備的MAX相涂層因厚度薄、柱狀晶結(jié)構(gòu)易導(dǎo)致其在高溫水蒸氣氧化過程中涂層內(nèi)氧化嚴(yán)重、防護(hù)性能不足問題,團(tuán)隊(duì)進(jìn)一步發(fā)展了高離化電弧復(fù)合磁控濺射PVD技術(shù)制備MAX(A=Al)相涂層的新方法。
其中,電弧源提供M元素,磁控源提供Al元素,有效抑制了復(fù)合靶材中低熔點(diǎn)Al易引起的涂層大顆粒與孔洞缺陷多的制備瓶頸。結(jié)合低溫固相反應(yīng),獲得了結(jié)構(gòu)致密、無柱狀晶晶界、與鋯合金結(jié)合強(qiáng)度高的Ti2AlN涂層,為探索其高溫腐蝕嚴(yán)苛環(huán)境使役性能提供了基礎(chǔ)(發(fā)明專利,201610561971.2,201910248442.0;Appl. Surf. Sci. 396 (2017) 1435)。
近期,團(tuán)隊(duì)研究了Ti2AlC MAX相涂層在高溫蒸氣環(huán)境下對鋯合金基體的防護(hù)性能影響。發(fā)現(xiàn),MAX相涂層(厚度~13.5μm)在1000-1200℃氧化腐蝕的過程中,形成了特殊三層結(jié)構(gòu)的復(fù)合氧化層(外層→內(nèi)層,r-TiO2→r-TiO2+α-Al2O3→α-Al2O3),這有效抑制了腐蝕離子的內(nèi)擴(kuò)散,使涂層在1100℃和1200℃氧化10min后,仍呈現(xiàn)出優(yōu)異腐蝕防護(hù)特性(在相同條件下,未經(jīng)該涂層涂敷的鋯合金基體,其氧化損傷嚴(yán)重,腐蝕厚度深達(dá)26.5μm~81.1μm)。結(jié)合微結(jié)構(gòu)演變與動力學(xué)分析,Ti2AlC MAX涂層中高活度Al的內(nèi)外快速擴(kuò)散被認(rèn)為是導(dǎo)致其最終“坍塌性”氧化失效的主要因素。相關(guān)工作連續(xù)發(fā)表a在Ceram. Int. 45(2019)9260和Ceram. Int. 11(2019) 13912。
以上研究工作得到國家重大專項(xiàng)(2015ZX06004-001)、國家自然科學(xué)基金(51875555)、中國博士后基金(2018M632513)、浙江省自然科學(xué)基金(LQ19E010002)和寧波工研院優(yōu)秀博士后基金等的支持。
圖1 (a) 電弧復(fù)合磁控濺射技術(shù)制備的Cr2AlC MAX相涂層截面形貌圖,(b-c)TEM與電子衍射圖
圖2 經(jīng)1200℃氧化5min后截面形貌;(a)/(c)Ti2AlC涂層及EDS圖,(b)/(d)鋯合金基體/EDS圖
圖3 鋯合金表面Ti2AlC MAX涂層在水蒸氣中的氧化機(jī)理示意圖
圖4 在30cm長鋯管表面均勻制備的系列MAX相涂層
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